EUV lithography 공정의 특수한 요구 사항을 충족할 수 있도록 도와드립니다.
B-Cool Eltec 502
Blaser 기술센터에서 가공한 가스 방출 큐브안. 전하고 신뢰할 수 있는 제품 및 공정의 개발을 위해. – Andreas Neumann, Electronics 사업부 책임자, Blaser Swisslube AG
품질 관리 및 생산을 위한 요구 사항을 만족 시킵니다
청결도 요구조건 충족
- 우수한 알루미늄 적합성 – Al 5083과 같은 민감한 합금에도 적용
- P, Si, Sn 및 Zn과 같은 주요 HIO 요소들이 포함되지 않은 조성
- 낮은 미네랄 오일 함량으로 RGA 조건 충족에 도움
만족스러운 작업 환경
- 최상의 장비 적합성
- 탁월한 세정력으로 깨끗하게 유지되는 부품 및 장비
- 연수 및 경수 모두에 적합
EUV lithography 공정용 부품 가공을 위해 특수하게 개발되었습니다
가공 표면: 민감한 알루미늄 합금에도 얼룩 없음
가스 방출: RGA 조건 충족에 도움
XPS: 주요 HIO 성분 없음
