„Profitieren Sie von unserem Wissen und unserer Erfahrung.“
Mit unserem umfassenden Know-how und unserer fundierten Erfahrung machen wir Ihren gesamten Produktionsprozess effizienter — vom Diamantseilschneiden über die Waferreinigung bis hin zur Filtration und Abfallwasserbehandlung. Schöpfen Sie das Potenzial Ihrer Maschinen und Werkzeuge vollständig aus und verwandeln Sie Ihren Kühlschmierstoff in einen zentralen Erfolgsfaktor – ein flüssiges Werkzeug.
Umfassende Analyse und Optimierung Ihrer Prozesse.
Andreas Neumann – Senior Application Engineer, Blaser Swisslube AG
Stabile Prozesse. Höhere Qualität. Geringere Kosten.
Wussten Sie schon, dass der Kühlschmierstoff nur ca. 10% Ihrer Herstellkosten ausmacht, sich jedoch positiv auf 90% dieser Kosten auswirken kann?
Minimale Kosten
- Minimaler Ausschuss
- Ersparnisse bei Diamantseilen, Arbeitskraft, Maschinen-Stillstandzeit, Reinigung von Chemikalien und Abwasserbehandlung
- Wahl zwischen Flüssigkeiten mit niedriger Konzentration und Flüssigkeiten mit normaler Konzentration mit Recyclingsystem
Maximale Ausgabe
- Gesteigerte Leistung
- Hohe Vorschubgeschwindigkeit, Schneidleistung und Maschinenverfügbarkeit
- Hohe Seilleistung dank dem hervorragenden Reinigungsverhalten des Kühlschmierstoffs
Für alle Prozesstypen
- Für ultradünne, galvanische und Kunstharzgebundene Drähte
- Für multi- und monokristallines Silizium
- Für Maschinen mit Einzelbefüllung (Batch) und zentrale Versorgungsanlagen
- Recycling unter Verwendung verschiedener Technologien (von Filterpresse bis hin zu komplexeren Filtrationslösungen)
Optimale Betriebskosten
Kosten pro Wafer
Kühlschmiermittel mit hoher Konzentration unter Verwendung von Recyclingsystemen
Hohe Schneidleistungen
- Hervorragende Reinigung des Diamantdrahts
- Geringe Verschleppung von Siliziumrückständen
REM-Abbildung von 60 µm Drähten
Exzellente Schneidqualität
- Geringe Dickenschwankung (TTV)/Sägespuren und Kantenausbrüche
- Hohe Oberflächen- und Kantengüte
- Minimaler Ausschuss
Waferdicken-Diagramme
Leicht zu reinigende Wafer
- Hervorragendes Spülverhalten
- Nur ein Minimum an Reinigung erforderlich
Wafersauberkeit vor der Vorreinigung
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